1. 光電光學(xué)超純水設(shè)備應(yīng)用范圍：
可適用光電制品，如：LCD,LED，觸摸屏等
光學(xué)制品：如光學(xué)鏡頭、光學(xué)鏡片等系列產(chǎn)品
 
2. 用水水質(zhì)要求：
此類光電光學(xué)產(chǎn)品對水質(zhì)要求十分高，出水水質(zhì)一般要求在15兆歐以上。
主要用于超聲波清洗時的純水水洗槽，進(jìn)水方式主要采用水逆流方式。
 
3. 用水量：
小型生產(chǎn)線如：一條長10左右的清洗線一般一天用水10T左右。
大型生產(chǎn)線：一條50米的清洗線一般一天用水50T左右
 
4.  設(shè)備要求：
根據(jù)用水水質(zhì)要求，光電光學(xué)超純水設(shè)備主要選用反滲透+混床+核能級混床工藝或采用反滲透+EDI+核能級混床工藝，兩種超純水設(shè)備均能達(dá)到出水水質(zhì)在15兆歐以上。